一、应用领域：
SiC 晶圆量产产线
SIC异型件
SIC AR晶片
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安光企业集团，深耕光刻胶与显影液研发生产，匠心打造优质电子材料，赋能半导体产业高质量发展。
安光企业集团，深耕光刻胶与显影液研发生产，匠心打造优质电子材料，赋能半导体产业高质量发展。
碳化硅衬底抛光液是第三代半导体 4H/6H-SiC 单晶衬底专用化学机械抛光（CMP）水性浆料，为车规功率半导体、射频器件、新能源逆变器核心耗材。SiC 莫氏硬度 9.5，化学惰性极强，单纯机械研磨易产生深亚表面损伤、划痕、晶格缺陷，直接导致外延片漏电、器件击穿电压下降、良率暴跌；抛光液依靠强氧化化学软化与精密机械微切削协同，将衬底加工至原子级无损伤镜面（Epi-ready 外延级），适配 2/4/6/8 英寸 SiC 晶圆量产产线。
一、应用领域：
SiC 晶圆量产产线
SIC异型件
SIC AR晶片
